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硅材料硅产品清洗超纯水设备

作者:北京水处理设备公司来源:超纯水设备发布时间:2017-03-07

   硅材料硅产品清洗超纯水设备,对水质的要求严格,因为微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,这些杂质会以不同的形式附着在硅体的表面,其中有机物包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导,碱金属如钠等,引起严重漏电,颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。

超纯水设备

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  超纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。超纯水是一般水质不可以代替的,超纯水设备利用先进的EDI技术和反渗透技术,主要去除水中的细菌,病毒等杂质,保证水质可以满足客户的用水标准。